• 晨立科研设备 科研仪器设备 科研专用加热设备 设计定制cl

    详细信息

     品牌:晨立  型号:cl  加工定制:是  
     用途:对所加工硅片进行扩散、氧化、退    

     

    科研炉是半导体加工中的典型热处理设备,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。
     


    主要技术参数: 
    ◆工艺管数量:1-4管
    ◆工艺管口径:Φ90-360mm(3~12英寸)
    ◆工作温度范围:400~1280℃
    ◆恒温区长度及精度±0.5℃/1080mm
    ◆工艺均匀性:≤±5%(30~60欧姆)

    ◆结构型式:卧式热壁型
    ◆气体流量设定精度:±1%F.S
    ◆气路系统气密性: 1×10-7pa.m3/s
    ◆超净工作台:净化等级:100级(万级厂房)噪音:≤62dB(A)震动:≤3μm
    ◆记录工艺曲线数量及工艺步数不受限制
    ◆控制方式: 工业微机控制

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